최첨단 포토마스크 식각 시스템
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어플라이드머티어리얼즈는 최첨단 포토마스크 식각 기술을 적용한 장비인 ‘어플라이드 센추라 테트라 EUV’ 시스템을 선보인다.
기존 포토마스크 기술에서 193 나노미터(nm) 광파장을 사용해 온 마스크 투과 제작 방식과 달리, 극자외선 포토마스크 기술에서는 13.5 나노미터 파장을 사용한 회로 기판 투영 방식이라는 점에서 본질적으로 차별화된다. 이 기술은 고성능 반도체 칩 제조 시 새로운 소재 및 복잡한 레이어 구조상에서의 식각을 가능하게 하는 동시에 패턴의 정확도를 높여, 극자외선 리소그래피 공정에서 발생할 수 있는 결함을 최소화하면서 높은 수율 및 생산성을 실현한다.
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